Tetrakis (methylethylamino) zirconium (IV) | TEMAZ | Zr[N(CH3)(C2H5)]4 | 6N

Tetrakis(methylethylamino) zirconium(IV) is precursor of ZrO2 in chemical deposition process, known as high-k insulating materials in COMS and DRAM; a resistive memory dielectric layer precursor; lithium-ion battery anode cladding deposition precursor. It is used to prepare specialty ceramics; catalyst of bridged metallocene compounds.